Inline Magnetron Sutlering system
Magneton putris inlineus machina efficiens maxime DC (vel MF) magnetron putris efficiens potest amplis scutis accommodari, ut: cuprum, titanium, chromium, chalybem immaculatum, nickel et alia materia metalla quae liniri possunt ad processum putris. adhaesio movendi, reproducibilitas, densitas, uniformitas aliaeque notae emendare possunt.
- a.Praecipuae notae et parametri
- b.linea horizontalis hinc inde intellegi potest
- c.efficientia productio, celeritas velocissima usque ad 1 min / beat
- d.modularis consilium, facile sustentationem
- e.plating processum maturitas, alta cede
- f.DC magnetron putris cathodes variari potest secundum elit
- g.Vacuum ratio consistit in sentina mechanica, Radices soleatus, diffusio soleatus (molecularis sentinae) Compositio
- h.Linea corporis magnitudine variari secundum Lorem opus
- 1) Vacuum cubiculi materies corporis SUS304 adhibita, expolitio parietis cubiculi vacuo curatione, parietis exterioris imbre globulis poliendis expediendis.
- 2) Valvae portae independentis inter cubiculum vacuum - valvae flapper distantes, efficaciter abscindi possunt, processus gasi stabilire.Ad praesens consilium valvae flapper nostrae comitatus adoptat, signacula melius, durabilior quam valvae communis domesticae currens.
- 3) Transmissio duce magnetico utitur, stabilitatem coegi protegat.Utraque velocitas totius productionis lineae motoris VVVF utens coegi, celeritas currens adaptari potest.
- 4) Electric Control System: Tange Screen and PLC automatic control, man-machina dialogus ad consequendam datam ostentationem systematis, parametri operandi et technologiam moderandi.
- 1) Pressura vacuum ultima: 6 1 0E-4 Pa
- 2) cyclus mediocris productio: secundum determinatum productum
- III) Subiectum possessor Size: nativus potest secundum exigentiam
- 4) Film uniformitas: ± 3% provectae technologiae mobilis campus magnae utilitatis scopum auxit
- Segmented consilio calefacientis ad processum ipsum conducit.
Epistulam tuam hic scribe et mitte nobis
